TY -
BOOK
AU - Steinke, Olaff
TI -
Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung mit hohen Raten
KW - Hochschulschrift
KW - Silicium
KW - Amorpher Zustand
KW - Dünne Schicht
KW - CVD-Verfahren
PY - 1995
UR - http://slubdd.de/katalog?TN_libero_mab2
ER -