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  1. Miller, Joel S. [HerausgeberIn] ; American Chemical Society Division of Inorganic Chemistry

    Chemically modified surfaces in catalysis and electrocatalysis : based on a sympos. jointly spons. by the Divisions of Inorganic, Analytical, and Petroleum Chemistry at the 182nd ACS national meeting, New York, New York, Aug 23-25, 1981

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    Washington, DC: American Chemical Society, 1982

    Erschienen in: American Chemical Society: ACS symposium series ; 192

  2. Howe, Russel F. [HerausgeberIn]; Lamb, R. N. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Wandelt, K. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Australian German Workshop on Surface Science 1991 Sydney

    Surface science : principles and applications; proceedings of the Australian-German workshop, Sydney, Australia, December 2 - 5, 1991

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    Berlin; Heidelberg; New York, NY; London; Paris; Tokyo; Hong Kong; Barcelona; Budapest: Springer, 1993

    Erschienen in: Springer proceedings in physics ; 73

  3. Boyd, Ian W. [HerausgeberIn] ; European Materials Research Society, Symposium on Photon, Beam and Plasma Assisted Processing Fundamentals and Device Technology 1988 Straßburg

    Photon, beam and plasma assisted processing : proceedings of Symposium B on Photon, Beam and Plasma Assisted Processing Fundamentals and Device Technology of the 1988 E-MRS spring conference; Strasbourg, France, 31 May - 2 June 1988 - [Reprint.]

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    Amsterdam [u.a.]: North-Holland, 1989

    Erschienen in: European Materials Research Society: European Materials Research Society symposia proceedings ; 2

  4. Auciello, Orlando [HerausgeberIn] ; Advanced Study Institute on Plasma Surface Interactions and Processing of Materials 1988 Alicante

    Plasma - surface interactions and processing of materials : [proceedings of the NATO Advanced Study Institute on Plasma - Surface Interactions and Processing of Materials, Alicante, Spain, Sept. 4 - 16, 1988]

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    Dordrecht; Boston: Kluwer Academic Publishers, 1990

    Erschienen in: NATO: NATO ASI series / E ; 176

  5. Narayan, Roger [HerausgeberIn]; Bandyopadhyay, Amit [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; American Ceramic Society

    Biomaterials science - processing, properties, and applications : [research papers from the Symposia on Next Generation Biomaterials and Surface Properties of Biomaterials, held during the 2010 Materials Science & Technology Conference & Exhibition (MS&T'10), Houston, TX, October 17 - 22, 2010]

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    Hoboken, NJ: Wiley, 2011

    Erschienen in: Ceramic transactions ; 22800

  6. Dowson, D. [HerausgeberIn]; Taylor, C. M. [HerausgeberIn]; Dowson, Duncan [HerausgeberIn] ; Institut National des Sciences Appliquées Lyon, Leeds Lyon Symposium on Tribology 14 1987 Lyon

    Interface dynamics : proceedings of the 14th Leeds-Lyon Symposium on Tribology, ..., Lyon, France ; 8th - 11th September 1987

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    Amsterdam [u.a.]: Elsevier, 1988

    Erschienen in: Tribology series ; 12

  7. Benedek, Giorgio [HerausgeberIn]; Valbusa, Ugo [HerausgeberIn] ; International School on Material Science and Technology 1981 Erice

    Dynamics of gas-surface interaction : proceedings of the International School on Material Science and Technology, Erice, Italy, July 1 - 15, 1981

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    Berlin; Heidelberg [u.a.]: Springer, 1982

    Erschienen in: Springer series in chemical physics ; 21

  8. Liehr, Michael [HerausgeberIn] ; Materials Research Society

    Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposium held April 17 - 19, 1995, San Francisco, California, U.S.A.

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    Pittsburgh, Pa.: Materials Research Society, 1995

    Erschienen in: Materials Research Society: Materials Research Society symposium proceedings ; 38600

  9. Shah, Dinesh O. [HerausgeberIn] ; International Symposium on Micelles, Microemulsions, and Monolayers: Quarter Century Progress and New Horizons 1995 Gainesville, Fla

    Micelles, microemulsions, and monolayers : science and technology

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    New York [u.a.]: Dekker, 1998

  10. IEE Colloquium on Charging and Tracking of Insulators in Gaseous and Vacuum Environments (1990 :London, England), Institution of Electrical Engineers Professional Group S3 (Ionised Gases and Vacuum), Institute of Physics (Great Britain), Institution of Electrical Engineers Science, Education, and Technology Division

    Colloquium on Charging and Tracking of Insulators in Gaseous and Vacuum Environments, Tuesday, 8 May 1990

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    London: Institution of Electrical Engineers, 1990

    Erschienen in: IEE Colloquium digest ; no. 1990/070

  11. IVESC 5 2004 Peking, Zhongguo dian zi xue hui, IEEE Electron Devices Society

    Proceedings / IVESC 2004, the 5th International Vacuum Electron Sources Conference, 2004 : 6 - 10 Sept. 2004, [The Media Center Hotel, Beijing, China]

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    Piscataway, NJ: IEEE Operations Center, 2004

  12. Lei, Wei [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Dongnan-Daxue, Institute of Electrical and Electronics Engineers Beijing Section

    8th International Vacuum Electron Sources Conference and NANOcarbon (IVESC), 2010 : [joint conference] ; 14 - 16 Oct. 2010, Nanjing, China ; proceedings

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    Piscataway, NJ: IEEE, 2010

  13. Electro 98 (1998 :Boston, Mass.), Central New England Regional Council, Electronics Representatives Association (U.S.), Institute of Electrical and Electronics Engineers Region 1

    Professional program proceedings : Electro 98, June 9-11, 1998, Bayside Exposition Center, Boston, MA, USA

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    [New York]: Institute of Electrical and Electronics Engineers, 1998

  14. Hu, Yuantai [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Zhongguo li xue xue hui, Zhongguo-Shengxue-Xuehui, IEEE Ultrasonics, Ferroelectrics, and Frequency Control Society

    Joint conference of the 2009 Symposium on Piezoelectricity, Acoustic Waves, and Device Applications (SPAWDA) and 2009 China Symposium on Frequency Control Technology : 17 - 20 Dec. 2009, Wuhan, China

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    Piscataway, NJ: IEEE, 2009

  15. Colloquium on "Application of Plasma Technology to Surface Processing - Recent Developments in Modelling and Diagnostics for Process Control and Optimization" (1995 :London, England), Institution of Electrical Engineers Professional Group S3 (Electron Physics, Discharges and Applications), Institution of Electrical Engineers Science, Education, and Technology Division

    Colloquium on "Application of plasma technology to surface processing - recent developments in modelling and diagnostics for process control and optimization" : on Thursday, 30 March 1995

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    London: Institution of Electrical Engineers, 1995

  16. International Geoscience and Remote Sensing Symposium (1994 :Pasadena, Calif.), Institute of Electrical and Electronics Engineers

    IGARSS '94 : International Geoscience and Remote Sensing Symposium : surface and atmospheric remote sensing : technologies, data analysis, and interpretation, California Institute of Technology, Pasadena, California, August 8-12, 1994

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    Piscataway, NJ: Institute of Electrical and Electronics Engineers, 1994