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  4. Daneker, Vadim [Verfasser:in]; Allenstein, Frank [Verfasser:in]

    Schlussbericht zum Vorhaben Defektfreie Ionenstrahlquelle und Prozesstechnik zur Multilayerbeschichtung von Maskblanks" innerhalb der Gesamtmassnahme "Lithographie für den 45nm- und 32nm-Knoten" : Laufzeit des Vorhaens: 01.07.2005 - 30.06.2008 (verlängert bis 31.12.2008)

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    Hohenstein-Ernstthal: Roth & Rau AG, [ca. 2009]

  5. Haase, Micha [Verfasser:in]; Ecke, Ramona [Verfasser:in]; Gawlitza, Peter [Verfasser:in]; Braun, Stefan [Verfasser:in] ; Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme, Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie, Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik

    Seven Nanometer Technology (SeNaTe) : Abschlussbericht im Rahmen des EU-Förderprogramms ECSEL : Berichte der Teilvorhaben: "Dual Damascene BEOL stack & patterning implementation" (Fh-ENAS), "Improved reflection coatings for optical systems with 7 nm resolution" (Fh-IWS) : Laufzeit des Vorhabens: 1/4/2015 - 31/3/2018

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    [Chemnitz]: Fraunhofer ENAS, [2018]