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  1. Lin, Kang-Yi; Preischl, Christian; Hermanns, Christian Felix; Rhinow, Daniel; Solowan, Hans-Michael; Budach, Michael; Edinger, Klaus; Oehrlein, G. S.

    SiO2 etching and surface evolution using combined exposure to CF4/O2 remote plasma and electron beam

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    American Vacuum Society, 2022

    Erschienen in: Journal of Vacuum Science & Technology A

  2. Lin, Kang-Yi; Preischl, Christian; Hermanns, Christian Felix; Rhinow, Daniel; Solowan, Hans-Michael; Budach, Michael; Marbach, Hubertus; Edinger, Klaus; Oehrlein, G. S.

    Electron beam-induced etching of SiO2, Si3N4, and poly-Si assisted by CF4/O2 remote plasma

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    American Vacuum Society, 2023

    Erschienen in: Journal of Vacuum Science & Technology A

  3. Brar, Victor W.; Decker, Régis; Solowan, Hans-Michael; Wang, Yang; Maserati, Lorenzo; Chan, Kevin T.; Lee, Hoonkyung; Girit, Çağlar O.; Zettl, Alex; Louie, Steven G.; Cohen, Marvin L.; Crommie, Michael F.

    Gate-controlled ionization and screening of cobalt adatoms on a graphene surface

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    Springer Science and Business Media LLC, 2011

    Erschienen in: Nature Physics