author = { Niewöhner, Ludwig },

title = { ITM-prozessierte CoSi 2 -Kontakte für großintegrierte CMOS-Schaltungen },

edition = { Als Ms. gedr. } ,

publisher = {VDI-Verl.},

isbn = {3181422096},

keywords = { Metal oxide semiconductors, Complementary , Integrated circuits , Design and construction , Electronic packaging , CMOS , Silicide , Ionenimplantation , Source Elektronik , Drain Elektronik , Selbstjustierende Technik },

year = {1991},

abstract = {Zugl.: Hannover, Univ., Fak. für Maschinenwesen, Diss., 1991},

booktitle = {Fortschrittberichte VDI ; Reihe 9, Elektronik, Mikro- und Nanotechnik ; 122},

address = { Düsseldorf },

url = { http://slubdd.de/katalog?TN_libero_mab2 }