%0 Generic
%T Metal gate manufacturing and characterization for high-k based 32/28nm CMOS technologies ; Elaboration et caractérisation des grilles métalliques pour les technologiesCMOS 32 / 28 nm à base de diélectrique haute permittivité
%A Baudot, Sylvain
%I HAL CCSD
%D 2012
%C HAL CCSD
%C [Erscheinungsort nicht ermittelbar]
%U http://slubdd.de/katalog?TN_libero_mab2
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