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  1. Raub, Ch.J [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Forschungsinstitut für Edelmetalle und Metallchemie

    Verbesserung der Eigenschaften von elektrolytisch abgeschiedenen Kupferüberzügen auf der Grundlage röntgenographischer Strukturuntersuchungen : Abschlußbericht 29 D

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    Schwäbisch Gmünd [u.a.], 1993

  2. Pietsch, Matthias [VerfasserIn] ; Schmidt, Helmut [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien, INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien

    Entwicklung und Charakterisierung eines Pd-haltigen Sol-Gel-Beschichtungsmaterials mit Eignung zur Strukturierung im Tampondruck sowie zur nachfolgenden stromlosen Kupferabscheidung

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    Saarbrücken: Universität des Saarlandes, 2022

  3. Pietsch, Matthias [VerfasserIn] ; Schmidt, Helmut [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien

    Entwicklung und Charakterisierung eines Pd-haltigen Sol-Gel-Beschichtungsmaterials mit Eignung zur Strukturierung im Tampondruck sowie zur nachfolgenden stromlosen Kupferabscheidung

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    Saarbrücken: Universität des Saarlandes, 2022

  4. Norman, John A. T. [VerfasserIn]; Perez, Melanie [VerfasserIn]; Schulz, Stefan E. [VerfasserIn]; Waechtler, Thomas [VerfasserIn]

    New Precursors for CVD Copper Metallization

    Aufsätze
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    Chemnitz : Technische Universität Chemnitz, [2008] ; Chemnitz : Air Products and Chemicals, Inc., [2008] ; Chemnitz : Elsevier B.V., [2008]

  5. Waechtler, Thomas [VerfasserIn]; Ding, Shao-Feng [VerfasserIn]; Hofmann, Lutz [VerfasserIn]; Mothes, Robert [VerfasserIn]; Xie, Qi [VerfasserIn]; Oswald, Steffen [VerfasserIn]; Detavernier, Christophe [VerfasserIn]; Schulz, Stefan E. [VerfasserIn]; Qu, Xin-Ping [VerfasserIn]; Lang, Heinrich [VerfasserIn]; Gessner, Thomas [VerfasserIn] ; Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS, Technische Universität Chemnitz, Fudan University, Ghent University, Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung IFW

    ALD-grown seed layers for electrochemical copper deposition integrated with different diffusion barrier systems

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    Amsterdam : Elsevier B.V., [2011]

  6. Waechtler, Thomas [VerfasserIn]; Schulze, Steffen [VerfasserIn]; Hofmann, Lutz [VerfasserIn]; Hermann, Sascha [VerfasserIn]; Roth, Nina [VerfasserIn]; Schulz, Stefan E. [VerfasserIn]; Gessner, Thomas [VerfasserIn]; Lang, Heinrich [VerfasserIn]; Hietschold, Michael [VerfasserIn]

    Detailed Study of Copper Oxide ALD on SiO2, TaN, and Ru

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    Chemnitz : Technische Universität Chemnitz, [2009] ; Chemnitz : Fraunhofer ENAS, [2009] ; Chemnitz : American Vacuum Society (AVS), [2009]

  7. Waechtler, Thomas [VerfasserIn]; Oswald, Steffen [VerfasserIn]; Roth, Nina [VerfasserIn]; Lang, Heinrich [VerfasserIn]; Schulz, Stefan E. [VerfasserIn]; Gessner, Thomas [VerfasserIn]

    ALD of Copper and Copper Oxide Thin Films For Applications in Metallization Systems of ULSI Devices

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    Chemnitz : Technische Universität Chemnitz, [2008] ; Chemnitz : Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung (IFW), Dresden, [2008] ; Chemnitz : Fraunhofer-Einrichtung für Elektronische Nanosysteme (ENAS), Chemnitz, [2008] ; Chemnitz : American Vacuum Society (AVS), [2008]

  8. Elsner, Franz Karl Leo [VerfasserIn]

    Die galvanische Vergoldung und Versilberung : sowohl matt als glänzend, sowie die Verkupferung, Verzinnung, Verbleiung, Verzinkung, (Bronzierung und Ueberziehung der Metalle mit Messing), Verplatinirung metallener Gegenstände auf demselben Wege ... - [3., durchges. und sehr verm. Aufl.]

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    Leipzig: Amelang, 1856 ; Online-Ausg.: Dresden: SLUB, 2010

  9. Petzholdt, Alexander [VerfasserIn]

    Die galvanische Vergoldung, Versilberung und Verkupferung : Bericht an d. Dresdener Gewerbeverein über d. von Elkington u. v. Ruolz angegebene neue Methode, Metallüberzüge jeder Art auf galvanischem Wege herzustellen

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    Dresden; Leipzig: Arnold, 1842 ; Online-Ausg.: Dresden: SLUB, 2010