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Krause, Andreas [VerfasserIn]Ultrathin CaTiO 3 capacitors : physics and applicationOnline ansehenSchließen
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Kaiser, Nico [VerfasserIn] ; Alff, Lambert [AkademischeR BetreuerIn]; Molina-Luna, Leopoldo [AkademischeR BetreuerIn]Substoichiometric Phases of Hafnium Oxide with Semiconducting PropertiesOnline ansehenSchließen
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Schönberger, Alex [VerfasserIn] ; Hofmann, Klaus [AkademischeR BetreuerIn]; Becker, Jürgen [AkademischeR BetreuerIn]Abschätzung der Leistungssteigerung durch 3D-DRAM und Evaluation einer lokalitätsbasierten ArchitekturOnline ansehenSchließen
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Schmelzer, Sebastian [VerfasserIn]Ultra thin oxide films for dielectric and resistive memory applicationsOnline ansehenSchließen
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Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.Aachen: Hochschulbibliothek der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule Aachen, 2013
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Krause, Andreas [VerfasserIn] ; Mikolajick, Thomas [AkademischeR BetreuerIn]; Kreupl, Franz [AkademischeR BetreuerIn]Ultrathin CaTiO3 Capacitors: Physics and ApplicationOnline ansehenSchließen
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Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.Dresden: Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden; Dresden: Technische Universität Dresden, 2014
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Li, Yan [VerfasserIn]Robust design of DRAM core circuits : yield estimation and analysis by a statistical design approachOnline ansehenSchließen
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Hong, Seok-Woo [VerfasserIn]; Kang, Seung-Mo [VerfasserIn]; Choi, In-Hyuk [VerfasserIn]; Jung, Seung-Uk [VerfasserIn]; Park, Dong-Sik [VerfasserIn]; Kim, Kyoung-Ho [VerfasserIn]; Choi, Yong-Jin [VerfasserIn]; Lee, Tae-Woo [VerfasserIn]; Lee, Haebum [VerfasserIn]; Cho, In-Soo [VerfasserIn]Novel Double-Deposited-Aluminum (DDA) Process for Improving Al Void and Refresh Characteristics of DRAMOnline ansehenSchließen
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Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.Chemnitz : Technische Universität Chemnitz, [2016]
Erschienen in: AMC 2015 – Advanced Metallization Conference
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Gluch, Jürgen [VerfasserIn] ; Eckert, Jürgen [AkademischeR BetreuerIn]; Bartha, Johann W. [AkademischeR BetreuerIn]Untersuchung von yttriumstabilisiertem Hafniumoxid als Isolatorschicht für DRAM-KondensatorenOnline ansehenSchließen
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Rahbar Azad, Mahmoud Reza [VerfasserIn] ; Oepen, Hans Peter [AkademischeR BetreuerIn]Wechselwirkung einzelner Mikrostrukturen untersucht mittels MagnetotransportOnline ansehenSchließen
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