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  1. Aleskovsky, V. B. [MitwirkendeR]; Barta, C. [MitwirkendeR]; Barta, Č. [MitwirkendeR]; Böhm, J. [MitwirkendeR]; Charlamov, I. A. [MitwirkendeR]; Clauss, D. [MitwirkendeR]; Ehlers, R. [MitwirkendeR]; Geil, W. [MitwirkendeR]; Hoff, F. [MitwirkendeR]; Kazannikova, T. P. [MitwirkendeR]; Kürsten, H. D. [MitwirkendeR]; Lebek, A. [MitwirkendeR]; LiŠka, O. [MitwirkendeR]; Lébl, M. [MitwirkendeR]; Moravec, F. [MitwirkendeR]; Novotný, J. [MitwirkendeR]; Ryttnauer, E. [MitwirkendeR]; Schmugge, K. [MitwirkendeR]; Schreckenbach, M. [MitwirkendeR]; Sergeyeva, L. A. [MitwirkendeR]; Stroitelev, S. A. [MitwirkendeR]; Stádník, B. [MitwirkendeR]; Suszyńnska, M. [MitwirkendeR]; Zemlička, J. [MitwirkendeR];

    Kristall und Technik : [Fortsetzung: Crystal Research and Technology] : Band 7, Heft 8 - [Reprint 2022]

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    Berlin; Boston: De Gruyter, [2022]

    Erschienen in: Kristall und Technik ; Band 7, Heft 8

  2. Aleskovsky, V. B. [MitwirkendeR]; Aleskowsky, V. B. [MitwirkendeR]; Bliznakov, G. [MitwirkendeR]; Bogomolov, N. S. [MitwirkendeR]; Bulakh, B. M. [MitwirkendeR]; Bunge, H. J. [MitwirkendeR]; Distlek, G. I. [MitwirkendeR]; Flögel, P. [MitwirkendeR]; Frank-Kamenetzkij, V. A. [MitwirkendeR]; Goilo, E. A. [MitwirkendeR]; Gütai, L. [MitwirkendeR]; Haraszthy, É. Sz [MitwirkendeR]; Kalinkin, I. P. [MitwirkendeR]; Kotov, N. V. [MitwirkendeR]; Kvapil, Jiri [MitwirkendeR]; Liebertz, J. [MitwirkendeR]; Mareček, V. [MitwirkendeR]; Meleško, L. O. [MitwirkendeR]; Meyer, K. [MitwirkendeR]; Muravyeva, K. K. [MitwirkendeR]; Nechiporexko, A. P. [MitwirkendeR]; Novâk, J. [MitwirkendeR]; Obrikat, D. [MitwirkendeR]; Pekar, G. S. [MitwirkendeR]; [...]

    Kristall und Technik : [Fortsetzung: Crystal Research and Technology] : Band 5, Heft 1 - [Reprint 2022]

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    Berlin; Boston: De Gruyter, [2022]

    Erschienen in: Kristall und Technik ; Band 5, Heft 1