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  1. Shi, Yifu [Verfasser:in]; Jones, Megan E. [Verfasser:in]; Meier, Martin S. [Verfasser:in]; Wright, Matthew [Verfasser:in]; Polzin, Jana Isabelle [Verfasser:in]; Kwapil, Wolfram [Verfasser:in]; Fischer, Christian [Verfasser:in]; Schubert, Martin [Verfasser:in]; Grovenor, Chris [Verfasser:in]; Bonilla, Ruy S. [Verfasser:in]

    Towards accurate atom scale characterisation of hydrogen passivation of interfaces in TOPCon architectures

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    Konstanz: KOPS Universität Konstanz, 2022

  2. Bonilla, Ruy S.; Reichel, Christian; Hermle, Martin; Wilshaw, Peter R.

    Erratum: “On the location and stability of charge in SiO2/SiNx dielectric double layers used for silicon surface passivation” [J. Appl. Phys. 115, 144105 (2014)]

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    AIP Publishing, 2015

    Erschienen in: Journal of Applied Physics, 117 (2015) 12, Seite 129901

  3. Yu, Mingzhe; Wright, Matthew; McNab, Shona; Al-Dhahir, Isabel; Altermatt, Pietro P.; Bonilla, Ruy S.

    Probing the interface state densities near band edges from inductively coupled measurements of sheet resistance

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    AIP Publishing, 2023

    Erschienen in: SILICONPV 2022, THE 12TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON CRYSTALLINE SILICON PHOTOVOLTAICS (2023)

  4. Al-Dhahir, Isabel; McNab, Shona; Yu, Mingzhe; Shaw, Eleanor; Hamer, Phillip; Bonilla, Ruy S.

    The influence of surface electric fields on the chemical passivation of Si-SiO2 interfaces after firing

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    AIP Publishing, 2022

    Erschienen in: SiliconPV 2021, The 11th International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics (2022)