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  4. Naasz, Sandra [VerfasserIn]; Hartbaum, Julian [VerfasserIn]; Butschke, Jörg [VerfasserIn]; Wintrich, Patrick [VerfasserIn]; Gulde, Martin [VerfasserIn]; Irmscher, Mathias [VerfasserIn] ; Institut für Mikroelektronik Stuttgart

    ECSEL-Projekt: "Seven Nanometer Technology" (SeNaTe), Teilvorhaben: EUV Prüfoptiken und Masken : Schlussbericht zum Vorhaben : Laufzeit: 01.04.2015-31.03.2018

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    Stuttgart: Institut für Mikroelektronik Stuttgart, 28.11.2018

  5. Görne, Dieter [MitwirkendeR]; Handrick, Willy [MitwirkendeR]; Holtzhauer, Helmut [MitwirkendeR]; Huchthausen, Lieselot [MitwirkendeR]; Irmscher, Johannes [MitwirkendeR]; Irmscher, Johannes [HerausgeberIn]; Milbradt, Jörg [HerausgeberIn]; Möller, Horst [MitwirkendeR]; Müller, Reimar [MitwirkendeR]; Schindler, Wolfgang [MitwirkendeR]; Schottlaender, Rudolf [MitwirkendeR]; Senff, Wilhelm [MitwirkendeR]; Trilse, Christoph [MitwirkendeR]

    Antikerezeption, deutsche Klassik und sozialistische Gegenwart - [Reprint 2021]

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    Berlin; Boston: De Gruyter, [2022]

    Erschienen in: Schriften der Winckelmann-Gesellschaft ; 5

  6. Annibaldis, Giacomo [MitwirkendeR]; Audrlng, Gert [MitwirkendeR]; Beyce, Trevor R. [MitwirkendeR]; Brandes, Wolfbam [MitwirkendeR]; Bruschi, Gerard Boulvert-Christian [MitwirkendeR]; Funke, Hermann [MitwirkendeR]; Günther, Jörg [MitwirkendeR]; Hartke, Werner [HerausgeberIn]; Heckel, Waldemar [MitwirkendeR]; Huchthausen, Liselot [MitwirkendeR]; Huss, Werner [MitwirkendeR]; Irmscher, Johannes [MitwirkendeR]; Jaecho, Viktor N. [MitwirkendeR]; Kbummrey, Hans [MitwirkendeR]; Kertesz, Istvän [MitwirkendeR]; Keummrey, Hans [MitwirkendeR]; Kluwe, Ernst [MitwirkendeR]; Kotula, Tadeusz [MitwirkendeR]; Kreissig, Heinz [MitwirkendeR]; Krummrey, Hans [MitwirkendeR]; Pasuto, Vladimir T. [MitwirkendeR]; Perl, Gerhard [MitwirkendeR]; Press-Waldemar Szubert-Tadeusz Sarnowski, Ludwika [MitwirkendeR]; Richteb, Lukas [MitwirkendeR]; [...]

    Klio : Beiträge zur alten Geschichte - [Reprint 2021]

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    Berlin; Boston: De Gruyter, [2022]

    Erschienen in: Klio ; Band 64, Heft 2

  8. Kaspar, Corinna; Butschke, Jörg; Irmscher, Mathias; Martens, Stephan; Sailer, Holger; Kirchner, Robert; Guzenko, Vitaliy A.; Schift, Helmut; Burghartz, Joachim N.

    Adjustable sidewall slopes by electron-beam exposure layout

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    American Vacuum Society, 2017

    Erschienen in: Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena

  10. Seitz, Holger; Renno, Markus; Leutbecher, Thomas; Olschewski, Nathalie; Reichardt, Torsten; Walter, Ronny; Popp, Helmut; Hess, Günter; Letzkus, Florian; Butschke, Jörg; Irmscher, Mathias

    EUVL mask blanks: Recent results on substrates, multilayers and the dry-etch process of TaN-absorbers

    Konferenzberichte
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    SPIE, 2006

    Erschienen in: SPIE Proceedings