Zum Inhalt springen

Fuchs, Stefan [InterviewerIn]; Pawlowski, Ralph [InterviewteR] ; Büro für Chancengleichheit Karlsruhe, Büro für Chancengleichheit Karlsruhe, Karlsruher Institut für Technologie, Karlsruher Institut für Technologie

KIT-Kinder-Uni - Auftaktmesse

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Karlsruhe: KIT-Bibliothek Süd, [2018]

Erschienen in: Campus-Report bei Radio Regenbogen ; 2018,07,31
Fuchs, Stefan [InterviewerIn]; Pawlowski, Ralph [InterviewteR] ; Karlsruher Institut für Technologie, Karlsruher Institut für Technologie

Wissenschaft zum Anfassen - Die 15. KIT-Kinder-Uni geht zu Ende

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Karlsruhe: KIT-Bibliothek Süd, 2017

Erschienen in: Campus-Report bei Radio Regenbogen ; 2017,08,15
Fuchs, Stefan [InterviewerIn]; Pawlowski, Ralph [InterviewteR] ; Büro für Chancengleichheit Karlsruhe, Büro für Chancengleichheit Karlsruhe

Anfassen, Mitmachen, Verstehen - die 14. Karlsruher Kinder-Uni hat begonnen

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Karlsruhe: KIT-Bibliothek Süd, 2016

Erschienen in: Campus-Report bei Radio Regenbogen ; 2016,08,09
Rhode, Stephan C.; Pawlowski, Markus; Tollrian, Ralph

The impact of ultraviolet radiation on the vertical distribution of zooplankton of the genus Daphnia

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Springer Science and Business Media LLC, 2001

Erschienen in: Nature
Shih, Hsiao-Yi; Yeh, Tung-Feng; Reiser, Arnost; Dammel, Ralph R.; Merrem, Hans J.; Pawlowski, Gerhard

A Percolation View of Novolak Dissolution. 3. Dissolution Inhibition

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

American Chemical Society (ACS), 1994

Erschienen in: Macromolecules
Shih, Hsiao-Yi; Yeh, Tung-Feng; Reiser, Arnost; Dammel, Ralph R.; Merrem, Hans-Joachim; Pawlowski, Georg

Percolation view of novolak dissolution: 3. dissolution inhibition

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1994

Erschienen in: Advances in Resist Technology and Processing XI
Yeh, Tung-Feng; Reiser, Arnost; Dammel, Ralph R.; Pawlowski, Georg; Roeschert, Horst

Scaling law for the dissolution of phenolic resins in aqueous base

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1993

Erschienen in: Advances in Resist Technology and Processing X
Yeh, Tung Feng; Reiser, Arnost; Dammel, Ralph R.; Pawlowski, Gerhard; Roeschert, Horst

A percolation view of novolak dissolution. 2. The statistics of a three-dimensional cubic percolation field and a generalized scaling law

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

American Chemical Society (ACS), 1993

Erschienen in: Macromolecules
Przybilla, Klaus‐jürgen; Dammel, Ralph; Pawlowski, Georg; Röschert, Horst; Spiess, Walter

t‐BOC blocked hydroxyphenyl‐methacrylates: On the way to quarter micron deep‐UV lithography

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Wiley, 1992

Erschienen in: Polymer Engineering & Science
Eckes, Charlotte; Pawlowski, Georg; Przybilla, Klaus J.; Meier, Winfried; Madore, Michel; Dammel, Ralph R.

Process latitude for the chemical amplification resists AZ PF514 and AZ PN114

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1991

Erschienen in: Advances in Resist Technology and Processing VIII
PRZYBILLA, KLAUS-JÜRGEN; DAMMEL, RALPH; RÖSCHERT, HORST; SPIESS, WALTER; PAWLOWSKI, GEORG

New t-BOC blocked polymers for advanced lithographic applications

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Technical Association of Photopolymers, Japan, 1991

Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology
PAWLOWSKI, GEORG; DAMMEL, RALPH; PRZYBILLA, KLAUS-JÜRGEN; RÖSCHERT, HORSY; SPIESS, WALTER

Novel photoacid generators: Key components for the progress of chemically amplified photoresist systems

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Technical Association of Photopolymers, Japan, 1991

Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology
Pawlowski, Georg; Dammel, Ralph R.; Lindley, Charlet R.; Merrem, Hans-Joachim; Roeschert, Heinz; Lingnau, Juergen

Chemically amplified DUV photoresists using a new class of photoacid-generating compounds

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1990

Erschienen in: SPIE Proceedings
Dammel, Ralph R.; Lindley, Charlet R.; Meier, Winfried; Pawlowski, Georg; Theis, Juergen; Henke, Wolfgang

Considerations on the focus latitude for G-line and DUV resists

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1990

Erschienen in: Optical/Laser Microlithography III
Dammel, Ralph R.; Lindley, Charlet R.; Pawlowski, Georg; Scheunemann, Ude; Theis, Juergen

Highly sensitive x-ray and electron-beam resists using chemical amplification

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1990

Erschienen in: SPIE Proceedings
Pawlowski, Georg; Dammel, Ralph; Lindley, Charlet R.; Merrem, Hans-Joachim; Röschert, Heinz; Wilharm, Peter

A novel two component positive photoresist for deep UV lithography

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Elsevier BV, 1990

Erschienen in: Microelectronic Engineering
Dammel, Ralph R.; Pawlowski, Georg; Romano, Andrew; Houlihan, Frank M.; Kim, Woo-Kyu; Sakamuri, Raj; Abdallah, David

Resist component leaching in 193-nm immersion lithography

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 2005

Erschienen in: SPIE Proceedings
Roeschert, Horst; Dammel, Ralph R.; Eckes, Charlotte; Kamiya, K.; Meier, Winfried; Przybilla, Klaus J.; Spiess, Walter; Pawlowski, Georg

DN 21, DN 41: negative-tone photoresists for deep-UV lithography

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1992

Erschienen in: SPIE Proceedings
Przybilla, Klaus J.; Roeschert, Heinz; Spiess, Walter; Eckes, Charlotte; Chatterjee, Subhankar; Khanna, Dinesh N.; Pawlowski, Georg; Dammel, Ralph R.

Progress in DUV resins

Online ansehen
Schließen

Zugang

Zugang zur Ressource (via DOI)

Zeige weitere weniger zeigen

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

SPIE, 1991

Erschienen in: Advances in Resist Technology and Processing VIII
Pawlowski, Georg; Dammel, Ralph; Eckes, Charlotte; Lindley, Charlet R.; Meier, Winfried; Przybilla, Klaus-Jürgen; Röschert, Horst; Spiess, Walter

Substituted polyhydroxystyrenes as matrix resins for chemically amplified deep UV resist materials

Online ansehen
Schließen

Zugang

Schließen

Merkliste

Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

Elsevier BV, 1991

Erschienen in: Microelectronic Engineering

Sie haben das Gesuchte nicht gefunden?

Kauftipp
Sie vermissen etwas, was Sie für Ihre Forschungszwecke benötigen? Geben Sie uns hier einen Kauf-Tipp.

Fernleihe
Recherchieren und bestellen Sie Ihren gewünschten Titel im Rechercheportal der Fernleihe.

Nur in Feld suchen:

Zuletzt gesuchte Begriffe:

Sie haben das Gesuchte nicht gefunden?

> Erscheinungsjahr

Erscheinungsjahr