Zum Inhalt springen Ahrens, Carsten [Verfasser:in] Untersuchung der Stabilität von Cu-Diffusionsbarrieren mit Hilfe von Schottky-Dioden Bücher Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Aachen: Shaker, 2003 Erschienen in: Berichte aus der Halbleitertechnik Hübner, René [Verfasser:in] Dünne tantalbasierte Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Leitbahntechnologie : thermische Stabilität, Ausfallmechanismen und Einfluss auf die Mikrostruktur des Metallisierungsmaterials Bücher Online ansehen Schließen > Zugang ... zum E-Book via Resolving-System ... zum E-Book via Deutsche Nationalbibliothek Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Baumann, Jens [Verfasser:in] Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen Bücher Online ansehen Schließen > Zugang ... zum E-Book via Resolving-System ... zum E-Book via Deutsche Nationalbibliothek Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Aachen: Shaker, 2004
Ahrens, Carsten [Verfasser:in] Untersuchung der Stabilität von Cu-Diffusionsbarrieren mit Hilfe von Schottky-Dioden Bücher Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Aachen: Shaker, 2003 Erschienen in: Berichte aus der Halbleitertechnik
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Hübner, René [Verfasser:in] Dünne tantalbasierte Diffusionsbarrieren für die Kupfer-Leitbahntechnologie : thermische Stabilität, Ausfallmechanismen und Einfluss auf die Mikrostruktur des Metallisierungsmaterials Bücher Online ansehen Schließen > Zugang ... zum E-Book via Resolving-System ... zum E-Book via Deutsche Nationalbibliothek Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
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Baumann, Jens [Verfasser:in] Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen Bücher Online ansehen Schließen > Zugang ... zum E-Book via Resolving-System ... zum E-Book via Deutsche Nationalbibliothek Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Aachen: Shaker, 2004
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> Verfügbarkeit Skip to next facet Freihand verfügbar (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Standort Skip to next facet Bereichsbibliothek DrePunct (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Fachgebiet Skip to next facet Technik (2) Wert ausschließen Physik (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Person/Institution Skip to next facet Ahrens, Carsten (1) Wert ausschließen Baumann, Jens (1) Wert ausschließen Hübner, René (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Kollektion Skip to next facet Diss online (2) Wert ausschließen Abschlussarbeiten der TU Dresden (1) Wert ausschließen Verbunddaten SWB (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen