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  2. Butschke, Peter [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Bause, Arndt [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Schöbel, Frank [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Kuhl, Rolf [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Neumann, Rainer [AusführendeR]; Doerk, Chris [AusführendeR]; Karina, Karin [AusführendeR] ; Händel-Club Berlin, Ost, Uve-Schikora-Combo, Hauff und Henkler, Konsum-Genossenschaftsverband Bezirk Rostock Gaststätte Teepott

    In unserem Garten : Schlager-Schallfolie (1 Schallfolie)

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    [S.l.]: Melodija, 1970

  5. Butschke, Joerg; Beyer, Dirk; Constantine, Chris; Dress, Peter; Hudek, Peter; Irmscher, Mathias; Koepernik, Corinna; Krauss, Christian; Plumhoff, Jason; Voehringer, Peter

    90-nm mask making processes using the positive tone chemically amplified resist FEP171

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    SPIE, 2003

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  6. Irmscher, Mathias; Berger, Lothar; Beyer, Dirk; Butschke, Joerg; Dress, Peter; Hoffmann, Thomas; Hudek, Peter; Koepernik, Corinna; Tschinkl, Martin; Voehringer, Peter

    Investigation of e-beam sensitive negative-tone chemically amplified resists for binary mask making

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    SPIE, 2003

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  7. Irmscher, Mathias; Beyer, Dirk; Butschke, Joerg; Hudek, Peter; Koepernik, Corinna; Plumhoff, Jason; Rausa, Emmanuel; Sato, Mitsuru; Voehringer, Peter

    Mask patterning process using the negative tone chemically amplified resist TOK OEBR-CAN024

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    SPIE, 2004

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  8. Koepernik, Corinna; Butschke, Joerg; Beyer, Dirk; Irmscher, Mathias; Leibold, Bernd; Rausa, Emmanuel; Plontke, Rainer; Plumhoff, Jason; Voehringer, Peter

    Alternating aperture phase shift mask process using e-beam lithography for the second level

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    SPIE, 2004

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  9. Plontke, Rainer; Bettin, Lutz; Beyer, Dirk; Butschke, Joerg; Irmscher, Mathias; Koepernik, Corinna; Leibold, Bernd; Vix, Armelle B. E.; Voehringer, Peter

    Avoidance/reduction of charging effects in case of partially insufficient substrate conductivity when using ESPACER 300Z

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    SPIE, 2004

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  10. Leibold, Bernd; Butschke, Joerg; Bettin, Lutz; Beyer, Dirk; Irmscher, Mathias; Koepernik, Corinna; Plontke, Rainer; Vix, Armelle; Voehringer, Peter

    Second-level imaging of advanced alternating phase-shift masks using e-beam lithography

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    SPIE, 2003

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  12. Platzgummer, Elmar; Klein, Christof; Joechl, Peter; Loeschner, Hans; Witt, Martin; Pilz, Wolfgang; Butschke, Joerg; Jurisch, Michael; Letzkus, Florian; Sailer, Holger; Irmscher, Mathias

    Charged particle multi-beam lithography evaluations for sub-16nm hp mask node fabrication and wafer direct write

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    SPIE, 2009

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  13. Irmscher, Mathias; Beyer, Dirk; Butschke, Joerg; Constantine, Chris; Hoffmann, Thomas; Koepernik, Corinna; Krauss, Christian; Leibold, Bernd; Letzkus, Florian; Mueller, Dietmar; Springer, Reinhard; Voehringer, Peter

    Comparative evaluation of e-beam sensitive chemically amplified resists for mask making

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    SPIE, 2002

    Erschienen in: SPIE Proceedings