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  17. Conley, Will; Moreau, Wayne M.; Perreault, Stanley; Spinillo, Gary T.; Wood, Robert L.; Gelorme, Jeffrey D.; Martino, Ronald M.

    Negative tone aqueous developable resist for photon, electron, and x-ray lithography

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    SPIE, 1990

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  19. Goldfarb, Darı́o L.; de Pablo, Juan J.; Nealey, Paul F.; Simons, John P.; Moreau, Wayne M.; Angelopoulos, Marie

    Erratum: Aqueous-based photoresist drying using supercritical carbon dioxide to prevent pattern collapse [J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3313 (2000)]

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    American Vacuum Society, 2001

    Erschienen in: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena

  20. Goldfarb, Darı́o L.; de Pablo, Juan J.; Nealey, Paul F.; Simons, John P.; Moreau, Wayne M.; Angelopoulos, Marie

    Aqueous-based photoresist drying using supercritical carbon dioxide to prevent pattern collapse

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    American Vacuum Society, 2000

    Erschienen in: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena