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  1. Preil, Michael [VerfasserIn] ; Rohde, Horst [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Ostrovsky, Robert [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Thüringen und Franken

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    Hamburg; Berlin; Bonn: Mittler, 1997

    Erschienen in: Militärgeschichtlicher Reiseführer

  2. Preil, Michael [VerfasserIn]

    Sachsen

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    Hamburg; Berlin; Bonn: Mittler, 1996

    Erschienen in: Militärgeschichtlicher Reiseführer

    Sächsische Bibliografie
  4. Dixit, Dhairya; Hosler, Erik R.; Preil, Moshe; Keller, Nick; Race, Joseph; Chun, Jun Sung; O’Sullivan, Michael; Montgomery, M. Warren; Diebold, Alain

    Optical CD metrology for directed self-assembly assisted contact hole shrink process

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    SPIE, 2015

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  5. Schmid, Gerard; Farrell, Richard; Xu, Ji; Park, Chanro; Preil, Moshe; Chakrapani, Vidhya; Mohanty, Nihar; Ko, Akiteru; Cicoria, Michael; Hetzer, David; Somervell, Mark; Rathsack, Benjamen

    Fabrication of 28nm pitch Si fins with DSA lithography

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    SPIE, 2013

    Erschienen in: Alternative Lithographic Technologies V

  6. Wang, Xuanchun; Lockhart, Samuel M.; Rathjen, Thomas; Albadawi, Hassan; Sørensen, Ditte; O'Neill, Brian T.; Dwivedi, Nishant; Preil, Simone R.; Beck, Hans Christian; Dunwoodie, Sally L.; Watkins, Michael T.; Rasmussen, Lars Melholt; Rask-Madsen, Christian

    Insulin Downregulates the Transcriptional Coregulator CITED2, an Inhibitor of Proangiogenic Function in Endothelial Cells

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    American Diabetes Association, 2016

    Erschienen in: Diabetes

  7. Dixit, Dhairya; Green, Avery; Hosler, Erik R.; Kamineni, Vimal; Preil, Moshe E.; Keller, Nick; Race, Joseph; Chun, Jun Sung; O’Sullivan, Michael; Khare, Prasanna; Montgomery, Warren; Diebold, Alain C.

    Optical critical dimension metrology for directed self-assembly assisted contact hole shrink

    Aufsätze
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    SPIE-Intl Soc Optical Eng, 2016

    Erschienen in: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS

  8. Farrell, Richard A.; Hosler, Erik R.; Schmid, Gerard M.; Xu, Ji; Preil, Moshe E.; Rastogi, Vinayak; Mohanty, Nihar; Kumar, Kaushik; Cicoria, Michael J.; Hetzer, David R.; DeVilliers, Anton

    Manufacturability considerations for DSA

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    SPIE, 2014

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  9. Dunbrack, Steven K.; Muray, Andrew J.; Sauer, Charles A.; Lozes, Richard L.; Nistler, John L.; Arnold, William H.; Kyser, David F.; Minvielle, Anna Maria; Preil, Moshe E.; Singh, Bhanwar; Templeton, Michael K.

    Phase-shift mask technology: requirements for e-beam mask lithography

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    SPIE, 1991

    Erschienen in: SPIE Proceedings