TY -
GEN
AU - Kremin, Christoph
AU - Hoffmann, Martin
AU - Schaaf, Peter
AU - Schnakenberg, Uwe
TI -
Fabrication and application of self-masked silicon nanostructures in deep reactive ion etching processes
PB - Universitätsbibliothek Ilmenau
KW - Industriechemikalie
KW - Silicium
KW - Plasmatechnik
KW - Hochschulschrift
PY - 2010
CY - Ilmenau
UR - http://slubdd.de/katalog?TN_libero_mab2
ER -