author = { Uhl, Arnold },

title = { Elektronenstrahl- und Tief-UV-Photochemie von Poly(methacrylsäuremethylester) und Poly(methacrylsäuremethylester-co-methacrylsäure) },

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keywords = { Hochschulschrift , Polymethylmethacrylate , Photoresist , Elektronenstrahllithografie , Excimerlaser , Fotochemische Reaktion , Nanotechnologie },

year = {2001},

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