Media type: Book; Thesis Title: Induktiv gekoppelte maskenlose Plasmatexturierung von kristallinem Silizium durch SF6/O2 für die industrielle Photovoltaik Contributor: Hirsch, Jens [VerfasserIn] Corporation: Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg imprint: Halle (Saale): Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS, Juli 2018 Extent: 111 Seiten; Illustrationen, Diagramme Language: German Keywords: Plasmaätzen > Fotovoltaik > Entspiegeln > Reflexionskoeffizient > Siliciumnitrid > Elektronenmikroskopie Origination: University thesis: Dissertation, Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg, 2018 Footnote: Literaturverzeichnis Seite 101-108 Tag der öffentlichen Verteidigung: 13. Juli 2018
Central Library – stack Shelf-mark: 2019 8 016866 Item ID: 34802211 Status: Loanable, place order > Ordering possible ‒ please log in