Media type: Book; Thesis Title: Integration epitaktischer InP-Schichten in Si-MOS-Schaltungen Contributor: Lubnow, Andreas [Author] imprint: Düsseldorf: VDI-Verlag, 1993 Published in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 9 ; 166 Extent: VI, 110 S; Ill., graph. Darst; 21 cm Language: German ISBN: 3181466093 RVK notation: ZN 4960 : MOS-, MIS-Schaltungen (hier auch CTD-Schaltungen; Eimerkettenschaltungen; CMOS-Schaltungen...) Keywords: MOS-Schaltung > Siliciumbauelement > Indiumphosphid > Dünne Schicht > Gasphasenepitaxie MOS-Schaltung > Siliciumbauelement > Indiumphosphid > Dünne Schicht > Gasphasenepitaxie Gasphasenepitaxie > Silicium > Indiumphosphid Origination: University thesis: Zugl.: Braunschweig, Techn. Univ., Diss. : 1993 Footnote: Literaturverz. S. 102 - 107
Departmental Library DrePunct – open access area Shelf-mark: ZN 1701-168 Item ID: 30525462 Status: Loanable