Herstellung und Untersuchung von PECVD-Siliziumoxinitridschichten für die integrierte Optik

Medientyp: Buch; Hochschulschrift
Titel: Herstellung und Untersuchung von PECVD-Siliziumoxinitridschichten für die integrierte Optik
Weitere Titel: Nebent.: PECVD-SiON für die integrierte Optik
Beteiligte: Peters, Dethard [VerfasserIn]; Müller, Jörg [Doktorvater]; Brinkmeyer, Ernst [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]
Körperschaft: Technische Universität Hamburg-Harburg, Arbeitsbereich Halbleitertechnologie
Erschienen: Düsseldorf: VDI-Verl., 1991
Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschritt-Berichte VDI ; 180
Ausgabe: Als Ms. gedr.
Umfang: IX, 210 S.; Ill., graph. Darst; 21 cm
Sprache: Deutsch
ISBN: 318148010X
Schlagwörter: Lichtwellenleiter > Dünne Schicht > Siliciumoxinitride > PECVD-Verfahren
Entstehung:
Hochschulschrift: Zugl.: Hamburg-Harburg, Techn. Univ., Arbeitsbereich Halbleitertechnologie, Diss., 1991
Anmerkungen:
Weitere Bestandsnachweise
0 : Fortschrittberichte VDI / 10

Herstellung und Untersuchung von PECVD-Siliziumoxinitridschichten für die integrierte Optik - [Als Ms. gedr.]