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Medientyp: Buch Titel: Plasma processes for semiconductor fabrication Enthält: Literaturverz. S. 205 - 211 Beteiligte: Hitchon, W. Nicholas G. [Verfasser:in] Erschienen: Cambridge [u.a.]: Cambridge University Press, 1999 Erschienen in: Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering ; 800 Umfang: IX, 221 S; Ill., graph. Darst; 26 cm Sprache: Englisch ISBN: 0521591759 RVK-Notation: ZN 4100 : Allgemeines UP 7570 : Halbleiter-Schichten Schlagwörter: Halbleiter > Ätzen Entstehung: Anmerkungen: Includes bibliographical references (p. 205-211) and index Weitere Bestandsnachweise 0 : Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering