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Medientyp:
Buch;
Hochschulschrift
Titel:
Investigation of physical and chemical interactions during etching of silicon in dual frequency capacitively coupled HBr/NF3 gas discharges
Weitere Titel:
Übers. des Hauptsacht.: Untersuchung physikalischer und chemischer Wechselwirkungen beim Si-Ätzen in zweifrequenzangeregten kapazitiv gekoppelten HBr/NF3 Gasentladungen