> Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
Medientyp: E-Book Titel: High Dielectric Constant Materials : VLSI MOSFET Applications Beteiligte: Huff, H.R [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Gilmer, D.C [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] Erschienen: Berlin, Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg, 2005 Erschienen in: Springer Series in Advanced Microelectronics ; 16 SpringerLink ; Bücher Umfang: Online-Ressource (XXIV, 710 p. 363 illus, digital) Sprache: Englisch ISBN: 9783540264620 DOI: 10.1007/b137574 Identifikator: Entstehung: RVK-Notation: UP 7750 : Leitfähigkeit dünner Schichten Schlagwörter: VLSI > MOS-FET > Gate > Siliciumdioxid > Dielektrische Schicht VLSI > MOS-FET > Gate > Siliciumoxinitride > Dielektrische Schicht Anmerkungen: