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Medientyp: E-Artikel Titel: Non-destructive depth profiling of silicon ion implantation induced damage in silicon (100) substrates Beteiligte: Lynch, S.; Murtagh, M.; Crean, G.M.; Kelly, P.V.; O'Connor, M.; Jeynes, C. Erschienen: Elsevier BV, 1993 Erschienen in: Thin Solid Films Sprache: Englisch DOI: 10.1016/0040-6090(93)90089-8 ISSN: 0040-6090 Schlagwörter: Materials Chemistry ; Metals and Alloys ; Surfaces, Coatings and Films ; Surfaces and Interfaces ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: