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Böttger, Carl Wilhelm [HerausgeberIn]

Physikalische Methoden der analytischen Chemie

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Leipzig: Akad. Verl.-Ges., 19XX-
Weule, Karl [VerfasserIn]

Chemische Technologie der Naturvölker

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Stuttgart: Franckh, 1922

Erschienen in: Weule, Karl: Die Anfänge der Naturbeherrschung. ; 2.1922 - Kosmos <Stuttgart> / Kosmos-Bändchen ; 8600
Wiederholt, Wilhelm [VerfasserIn]

Die chemische Oberflächenbehandlung von Metallen zum Korrosionsschutz

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Saulgau/Württ.: Eugen G. Leuze Verlag, 1963

Erschienen in: Schriftenreihe Galvanotechnik ; 9
Chemical vapor deposition : CVD

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Weinheim: Wiley-VCH, 1995-2010 ; Weinheim: VCH-Verlagsges., anfangs / 1.1995,1(Juli) - 16.2010

Erschienen in: Advanced materials
Besmann, T. M. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Besmann, Theodore M. [HerausgeberIn] ; International Conference on Chemical Vapor Deposition 13 1996 Los Angeles, Calif, Electrochemical Society High Temperature Materials Division, Electrochemical Society Dielectric Science and Technology Division

Proceedings of the Thirteenth International Conference on Chemical Vapor Deposition : [held as part of the Electrochemical Society Meeting in Los Angeles, California, Mai 5 - 10, 1996]

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Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1996

Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 19960500
Liebman, Joel F. [HerausgeberIn]

Physical measurements

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New York, NY [u.a.]: VCH Verl.-Ges., 1987

Erschienen in: Molecular structure and energetics ; 2
Arnold, Heinrich [VerfasserIn]

Chemische Dampfablagerung : CVD-Grundlagen für d. Mikroelektronik

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Berlin: Akademie-Verlag, 1982
Weitz, Anneliese [VerfasserIn]

Die Verflüchtigung als Trennmethode für die Spurenelementanalyse und die Spurenverbindungsanalyse

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1984
Kodas, Toivo [HerausgeberIn]

The chemistry of metal CVD

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Weinheim; New York; Basel; Cambridge; Tokyo: VCH, 1994
Pierson, Hugh O. [VerfasserIn]

Handbook of chemical vapor deposition (CVD) : principles, technology and applications

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Park Ridge, NJ: Noyes Publ., c 1992

Erschienen in: Materials science and process technology series ; Electronic materials and process technology
Guggenberger, Michael A. [VerfasserIn]

Kinetische Untersuchungen zur katalysierten chemischen Gasphasenabscheidung von monokristallinen Siliciumnitrid-Filamenten

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1996
Borer, Beat Urs [VerfasserIn]

SiO X thin film deposition on particles by plasma enhanced chemical vapor deposition in a circulating fluidized bed reactor

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2005 ; Mikrofiche-Ausg.
Claessen, Rolf U. [VerfasserIn]

Design of volatile non-halogenated precursors for the chemical vapor deposition (CVD) : understanding key molecular properties in a CVD process feasibility study

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Norderstedt: Books on Demand, 2001
Mäschig, Klaus [VerfasserIn]

Dünnschicht-Technologie : allgemeine Grundlagen und Methoden der Dünnschicht-Technik zur Oberflächenvergütung

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Frankfurt/M.: Syntext Ges. für Kommunikation, 1988

Erschienen in: Fachdokumentation Syntext
Davazoglou, Dimitris [HerausgeberIn] ; European Conference on Chemical Vapor Deposition 13 2001 Glifada

Thirteenth European Conference on Chemical Vapor Deposition : late news, EURO CVD Thirteen; Glyfada, Athens, Greece, August 26 - 31, 2001

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Les Ulis: Les Éd. de Physique, 2001

Erschienen in: Journal de physique / 4 ; 12,4
Figueras, Albert [HerausgeberIn] ; European Conference on Chemical Vapour Deposition 12 1999 Sitges

Proceedings of the twelfth European Conference on Chemical Vapour Deposition : late news; Sitges, Barcelona, Spain, September 5 - 10, 1999

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Les Ulis: Les Éd. de Physique, 2000

Erschienen in: Journal de physique / 4 ; 10,2
Figueras, A. [HerausgeberIn] ; European Conference on Chemical Vapour Deposition 12 1999 Sitges

Proceedings of the Twelfth European Conference on Chemical Vapour Deposition : Sitges, Barcelona, Spain, September 5 - 10, 1999

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Les Ulis: Les Éd. de Physique, 1999-

Erschienen in: Journal de physique ; 4 ; .
Paterok, Lienhard J. [VerfasserIn] ; Paterok, Lienhard Johannes [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

Beitrag zur Herstellung und dem Verhalten von CVD-Verschleiss-Schutzschichten an Hochleistungsschnellarbeitsstahl

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1984
Wilderer, Peter A. [HerausgeberIn] ; Abwassertechnisches Seminar 32 2004 Garching b. München

Abwasserreinigung ohne Biologie? : zur Bedeutung chemisch-physikalischer Reinigungsverfahren; 32. Abwassertechnisches Seminar

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Garching: Gesellschaft zur Förderung des Lehrstuhls für Wassergüte- und Abfallwirtschaft der Technischen Universität München e.V., 2004

Erschienen in: Berichte aus Wassergüte- und Abfallwirtschaft ; 180
Ali, Moazzam [VerfasserIn]

Chemical vapor synthesis and characterization of undoped, doped and functionalized ZnO nanoparticles

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Dresden: TUDpress, 2010

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