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  3. Lederer, Maximilian [VerfasserIn] ; Eng, Lukas [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Noheda, Beatriz [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Material development of doped hafnium oxide for non-volatile ferroelectric memory application

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    Dresden: Technische Universität Dresden, 2022

  4. Ali, Tarek [VerfasserIn] ; Eng, Lukas [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Van Houdt, Jan [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Müller, Johannes [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Novel Fluorite Structure Ferroelectric and Antiferroelectric Hafnium Oxide-based Nonvolatile Memories

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    Dresden: Technische Universität Dresden, 2022

  5. Mart, Clemens [VerfasserIn] ; Eng, Lukas M. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Noheda, Beatriz [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Pyroelectric and electrocaloric effects in hafnium oxide thin films

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    Dresden: Technische Universität Dresden, 2021

  6. Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Park, Min Hyuk [VerfasserIn]; Begon-Lours, Laura [VerfasserIn]; Slesazeck, Stefan [VerfasserIn]

    From Ferroelectric Material Optimization to Neuromorphic Devices

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    Weinheim : Wiley-VCH, [2024]

  7. Schroeder, Uwe [VerfasserIn]; Materano, Monica [VerfasserIn]; Mittmann, Terence [VerfasserIn]; Lomenzo, Patrick D. [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Toriumi, Akira [VerfasserIn]

    Recent progress for obtaining the ferroelectric phase in hafnium oxide based films: impact of oxygen and zirconium

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    Bristol : IOP Publishing, [2022]

  8. Materlik, Robin [VerfasserIn] ; Mikolajick, Thomas [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Kersch, Alfred [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Stabilization of Ferroelectricity in Hafnia, Zirconia and their Mixtures by Dopants and Interface Energy

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    Dresden: Technische Universität Dresden, 2019

  9. Jachalke, Sven [VerfasserIn]; Schenk, Tony [VerfasserIn]; Park, Min Hyuk [VerfasserIn]; Schroeder, Uwe [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Stöcker, Hartmut [VerfasserIn]; Mehner, Erik [VerfasserIn]; Meyer, Dirk C. [VerfasserIn]

    Pyroelectricity of silicon-doped hafnium oxide thin films

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    Melville, NY : AIP Publishing, [2022]

  10. Materano, Monica [VerfasserIn] ; Mikolajick, Thomas [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Dubourdieu, Catherine [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Optimization of performance and reliability of HZO-based capacitors for ferroelectric memory applications

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    Dresden: Technische Universität Dresden, 2022

  11. Gluch, Jürgen [VerfasserIn] ; Eckert, Jürgen [AkademischeR BetreuerIn]; Bartha, Johann W. [AkademischeR BetreuerIn]

    Untersuchung von yttriumstabilisiertem Hafniumoxid als Isolatorschicht für DRAM-Kondensatoren

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    Dresden: Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden; Dresden: Technische Universität Dresden, 2011

  12. Fengler, Franz P. G. [VerfasserIn]; Nigon, Robin [VerfasserIn]; Muralt, Paul [VerfasserIn]; Grimley, Everett D. [VerfasserIn]; Sang, Xiahan [VerfasserIn]; Sessi, Violetta [VerfasserIn]; Hentschel, Rico [VerfasserIn]; LeBeau, James M. [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Schroeder, Uwe [VerfasserIn]

    Analysis of Performance Instabilities of Hafnia-Based Ferroelectrics Using Modulus Spectroscopy and Thermally Stimulated Depolarization Currents

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    Weinheim : Wiley-VCH, [2022]

  13. Stolichnov, Igor [VerfasserIn]; Cavalieri, Matteo [VerfasserIn]; Colla, Enrico [VerfasserIn]; Schenk, Tony [VerfasserIn]; Mittmann, Terence [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Schroeder, Uwe [VerfasserIn]; Ionescu, Adrian M. [VerfasserIn]

    Genuinely Ferroelectric Sub-1-Volt-Switchable Nanodomains in HfₓZr₍₁₋ₓ₎ O₂ Ultrathin Capacitors

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    Washington, DC : ACS Publications, [2022]

  14. Schenk, Tony [VerfasserIn]; Anspoks, Andris [VerfasserIn]; Jonane, Inga [VerfasserIn]; Ignatans, Reinis [VerfasserIn]; Johnson, Brienne S. [VerfasserIn]; Jones, Jacob L. [VerfasserIn]; Tallarida, Massimo [VerfasserIn]; Marini, Carlo [VerfasserIn]; Simonelli, Laura [VerfasserIn]; Hönicke, Philipp [VerfasserIn]; Richter, Claudia [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Schroeder, Uwe [VerfasserIn]

    Local structural investigation of hafnia-zirconia polymorphs in powders and thin films by X-ray absorption spectroscopy

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    Amsterdam : Elsevier, [2022]

  15. Mulaosmanovic, Halid [VerfasserIn]; Breyer, Evelyn T. [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Slesazeck, Stefan [VerfasserIn]

    Recovery of Cycling Endurance Failure in Ferroelectric FETs by Self-Heating

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    New York, NY : IEEE, [2021]

  16. Jachalke, Sven [VerfasserIn] ; Meyer, Dirk C. [AkademischeR BetreuerIn]; Meyer, Dirk C. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Mikolajick, Thomas [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Characterization of Novel Pyroelectrics : From Bulk GaN to Thin Film HfO2

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    Freiberg: Technische Universität Bergakademie Freiberg, 2019

  18. Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Slesazeck, Stefan [VerfasserIn]; Park, Min Hyuk [VerfasserIn]; Schroeder, Uwe [VerfasserIn]

    Ferroelectric hafnium oxide for ferroelectric random-access memories and ferroelectric field-effect transistors

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    Berlin : Springer, [2022]

  19. Mulaosmanovic, Halid [VerfasserIn]; Chicca, Elisabetta [VerfasserIn]; Bertele, Martin [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Slesazeck, Stefan [VerfasserIn]

    Mimicking biological neurons with a nanoscale ferroelectric transistor

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    Cambridge : RSC, [2022]

  20. Buragohain, P. [VerfasserIn]; Richter, C. [VerfasserIn]; Schenk, Tony [VerfasserIn]; Schroeder, Uwe [VerfasserIn]; Mikolajick, Thomas [VerfasserIn]; Lu, H. [VerfasserIn]; Gruverman, A. [VerfasserIn]

    Nanoscopic studies of domain structure dynamics in ferroelectric La:HfO2 capacitors

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    Melville, NY : AIP Publishing, [2022]