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  1. Landis, Stefan [HerausgeberIn]

    Nano-lithography

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    Hoboken, NJ: Wiley, 2011 ; London: ISTE [u.a.], 2011

  2. Steib, Frederik [VerfasserIn] ; Waag, Andreas [AkademischeR BetreuerIn]; Kowalsky, Wolfgang [AkademischeR BetreuerIn] Technische Universität Braunschweig, Verlag Dr. Hut München

    Sputterepitaxie von Gruppe-III-Nitriden - [1. Auflage]

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    München: Verlag Dr. Hut, 2020

  3. Srinivasan, G. R. [HerausgeberIn]; Murthy, C. S. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Dunham, S. T. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Electrochemical Society Electronics Division, International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology 4 1996 Los Angeles, Calif

    Proceedings of the Fourth International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology : [held in Los Angeles, California, May 5 - 10, 1996, as part of the Spring Meeting of the Electrochemical Society]

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    Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1996

    Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 96,4