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Mathad, G. S. [HerausgeberIn]; Schwartz, G. C. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Hess, Dennis W. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Symposium on Plasma Processing 7 1988 Atlanta, Ga

Proceedings of the Seventh Symposium on Plasma Processing : [held in Atlanta, Ga., May 15 - 20, 1988]

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Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1988

Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 88,22
Hess, Dennis W.

(Invited) Surface Modification to Control Wetting and Adhesion of Aqueous Solutions

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The Electrochemical Society, 2022

Erschienen in: ECS Meeting Abstracts
Hess, Dennis W.

(Invited) Chemical Approaches to Etch and Pattern Copper Films

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The Electrochemical Society, 2021

Erschienen in: ECS Meeting Abstracts
Hess, Dennis W.

(Invited) Developing Leadership Skills in Engineering and Science Majors

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The Electrochemical Society, 2021

Erschienen in: ECS Meeting Abstracts
Hess, Dennis W.

(Invited) Impact of ECS Journal Focus Issues and Article Types on LDM Visibility and Recognition

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The Electrochemical Society, 2018

Erschienen in: ECS Meeting Abstracts
Hess, Dennis W.

(Henry B. Linford Award for Distinguished Teaching Address) Low Temperature Plasma Etching of Copper, Silver, and Gold Films

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The Electrochemical Society, 2014

Erschienen in: ECS Meeting Abstracts
Hess, Dennis W.

Publishing Luminescence and Display Materials Content in ECS Journals: Past, Present, and Future

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The Electrochemical Society, 2013

Erschienen in: ECS Meeting Abstracts
Hess, Dennis W.

JES Classics: ECS Science at Its Best: Looking Back, Charging Ahead

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The Electrochemical Society, 2009

Erschienen in: The Electrochemical Society Interface
Hess, Dennis W.

ECS Classics: Who Is Thomas D. Callinan, and Why Is His Name Associated with Dielectrics?

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The Electrochemical Society, 2003

Erschienen in: The Electrochemical Society Interface
Hess, Dennis W.

From the President: Educating the Public

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The Electrochemical Society, 1996

Erschienen in: The Electrochemical Society Interface
Hess, Dennis W.

From the President: Key to a Healthy Society

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The Electrochemical Society, 1996

Erschienen in: The Electrochemical Society Interface
Hess, Dennis W.

Editorial - Chemistry of Materials - The "Reaction" Continues

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American Chemical Society (ACS), 1994

Erschienen in: Chemistry of Materials
Hess, Dennis W.

Editorial - Chemistry of Materials - The Honeymoon is Just Beginning

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American Chemical Society (ACS), 1991

Erschienen in: Chemistry of Materials
Hess, Dennis W.

Plasma-Surface Interactions in Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

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Annual Reviews, 1986

Erschienen in: Annual Review of Materials Science
Hess, Dennis W.

Plasma etch chemistry of aluminum and aluminum alloy films

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Springer Science and Business Media LLC, 1982

Erschienen in: Plasma Chemistry and Plasma Processing
Levitin, Galit; Hess, Dennis W.

Surface Reactions in Microelectronics Process Technology

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Annual Reviews, 2011

Erschienen in: Annual Review of Chemical and Biomolecular Engineering
Diao, Jie; Hess, Dennis W.

Refractive Index Measurements of Films with Biaxial Symmetry. 1. Determination of Complex Refractive Indices Using Polarized Reflectance/Transmittance Ratio

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American Chemical Society (ACS), 2005

Erschienen in: The Journal of Physical Chemistry B
Diao, Jie; Hess, Dennis W.

Refractive Index Measurements of Films with Biaxial Symmetry. 2. Determination of Film Thickness and Refractive Indices Using Polarized Transmission Spectra in the Transparent Wavelength Range

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American Chemical Society (ACS), 2005

Erschienen in: The Journal of Physical Chemistry B
Li, Yiming; Hess, Dennis W.

Plasma etching of thick polynorbornene layers for electronic packaging applications

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American Vacuum Society, 2002

Erschienen in: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena
Dudick, Sumner; Hess, Dennis W.; Breedveld, Victor

Liquid Repellence of Phobic Fiber Networks

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American Chemical Society (ACS), 2022

Erschienen in: Langmuir

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