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Bansemer, Robert [VerfasserIn] ; Rienen, Ursula van [AkademischeR BetreuerIn]; Weltmann, Klaus-Dieter [AkademischeR BetreuerIn]; Kroesen, Gerrit M. W. [AkademischeR BetreuerIn] Universität Rostock, Universität Rostock Fakultät für Informatik und Elektrotechnik

Computer assisted development and optimization of a variable dielectric barrier discharge

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http://purl.uni-rostock.de/rosdok/id00002782

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Rostock: Universität, 2020
Bansemer, Robert [VerfasserIn] ; Rienen, Ursula van [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Weltmann, Klaus-Dieter [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Kroesen, Gerrit M. W. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

Computer assisted development and optimization of a variable dielectric barrier discharge

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https://d-nb.info/129366099X/34

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Rostock: Universität Rostock, 2020
Adamovich, Igor [VerfasserIn]; Agarwal, S. [VerfasserIn]; Ahedo, Eduardo [VerfasserIn]; Alves, Luís Lemos [VerfasserIn]; Baalrud, Scott [VerfasserIn]; Babaeva, Natalia [VerfasserIn]; Bogaerts, Annemie [VerfasserIn]; Bourdon, Anne [VerfasserIn]; Bruggeman, Peter J. [VerfasserIn]; Canal, C. [VerfasserIn]; Choi, E H [VerfasserIn]; Coulombe, Sylvain [VerfasserIn]; Donko, Zoltan [VerfasserIn]; Graves, David [VerfasserIn]; Hamaguchi, Satoshi [VerfasserIn]; Hegemann, Dirk [VerfasserIn]; Hori, M. [VerfasserIn]; Kim, Hyun-Ha [VerfasserIn]; Kroesen, G M W [VerfasserIn]; Kushner, Mark J. [VerfasserIn]; Laricchiuta, Annarita [VerfasserIn]; Li, Xingwe [VerfasserIn]; Magin, T. E. [VerfasserIn]; Mededovic Thagard, S [VerfasserIn]; [...]

The 2022 Plasma Roadmap : low temperature plasma science and technology

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Bristol: IOP Publishing, 05 July 2022

Erschienen in: Journal of Physics D: Applied Physics ; 55 (2022), 373001
Beckers, J.; Kroesen, G. M. W.

Gas temperature dependence of coagulation onset times for nanoparticles in low pressure hydrocarbon plasmas

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AIP Publishing, 2013

Erschienen in: Applied Physics Letters
Beckers, J.; Kroesen, G. M. W.

Surprising temperature dependence of the dust particle growth rate in low pressure Ar/C2H2 plasmas

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AIP Publishing, 2011

Erschienen in: Applied Physics Letters
Bakker, L. P.; Kroesen, G. M. W.

Thomson scattering in a low-pressure neon mercury positive column

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AIP Publishing, 2001

Erschienen in: Journal of Applied Physics
Bakker, L. P.; Kroesen, G. M. W.

Emission spectrum of a depleted neon–mercury positive column

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AIP Publishing, 2000

Erschienen in: Journal of Applied Physics
Bakker, L. P.; Kroesen, G. M. W.

Mercury depletion as a way of changing the emission spectrum of a fluorescent lamp

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AIP Publishing, 2000

Erschienen in: Applied Physics Letters
Bakker, L. P.; Kroesen, G. M. W.

Thomson scattering in a low-pressure argon mercury positive column

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AIP Publishing, 2000

Erschienen in: Journal of Applied Physics
Kroesen, G. M. W.; Hoog, F. J.

In-situ diagnostics for plasma surface processing

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Springer Science and Business Media LLC, 1993

Erschienen in: Applied Physics A Solids and Surfaces
Kersten, H.; Kroesen, G. M. W.

The Thermal Balance of Substrates During Plasma Processing

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Wiley, 1990

Erschienen in: Contributions to Plasma Physics
Sorokin, M.; Kroesen, G.M.W.; Stoffels, W.W.

Temperature Dependence and Silane Consumption During Particle Formation in Ar–Silane RF Capacitively Coupled Plasma

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Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2004

Erschienen in: IEEE Transactions on Plasma Science
Beckers, J; Stoffels, W W; Kroesen, G M W

Temperature dependence of nucleation and growth of nanoparticles in low pressure Ar/CH4RF discharges

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IOP Publishing, 2009

Erschienen in: Journal of Physics D: Applied Physics
Gupta, Nandini; Stoffels, W W; Kroesen, G M W

Numerical simulation of primary cluster formation in silane plasmas

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IOP Publishing, 2003

Erschienen in: Journal of Physics D: Applied Physics
Stoffels, E; Stoffels, W W; Kroesen, G M W

Plasma chemistry and surface processes of negative ions

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IOP Publishing, 2001

Erschienen in: Plasma Sources Science and Technology
Hagelaar, G J M; Kroesen, G M W

A Monte Carlo modelling study of the electrons in the microdischarges in plasma addressed liquid crystal displays

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IOP Publishing, 2000

Erschienen in: Plasma Sources Science and Technology
Hagelaar, G.J.M.; Kroesen, G.M.W.

Speeding Up Fluid Models for Gas Discharges by Implicit Treatment of the Electron Energy Source Term

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Elsevier BV, 2000

Erschienen in: Journal of Computational Physics
Hagelaar, G.J.M.; Kroesen, G.M.W.

Implementing arbitrarily shaped boundaries in two-dimensional discharge modeling

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Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 1999

Erschienen in: IEEE Transactions on Plasma Science
Gendre, M F; Haverlag, M; Kroesen, G M W

Optical and electrostatic potential investigations of electrical breakdown phenomena in a low-pressure gas discharge lamp

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IOP Publishing, 2010

Erschienen in: Journal of Physics D: Applied Physics
Kroesen, G. M. W.; Oehrlein, G. S.; Bestwick, T. D.

Nonintrusive wafer temperature measurement using in situ ellipsometry

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AIP Publishing, 1991

Erschienen in: Journal of Applied Physics

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