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  2. Steinke, Olaff [MitwirkendeR]; Stahr, Frank [MitwirkendeR] ; FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

    "DYNASTO - Dynamische Abscheidung von a-Si und TCO-Schichten für Hocheffizienz Si-Solarzellen als Schlüssel für hochproduktive Fertigung bei reduzierten Herstellkosten" (DYNASTO); Teilvorhaben FAP GmbH:Optimierung der PECVD Linearquellentechnologie zur dynamischen Abscheidung von a-Si-Schichten für Hocheffizienz Si-Solarzellen : Berichtszeitraum: 01.01.2019-30.06.2022

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    Dresden: FAP GmbH Dresden, [2022?]

  3. Strobel, Carsten; Chavarin, Carlos A.; Völkel, Sandra; Jahn, Andreas; Hiess, Andre; Knaut, Martin; Albert, Matthias; Wenger, Christian; Steinke, Olaff; Stephan, Ulf; Röhlecke, Sören; Mikolajick, Thomas

    Enhanced Electrical Properties of Optimized Vertical Graphene-Base Hot Electron Transistors

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    American Chemical Society (ACS), 2023

    Erschienen in: ACS Applied Electronic Materials

  4. Ushakov, Andrey; van Veldhoven, Jacqueline; Rijnsent, Corné; Yatsuka, Eiichi; Verlaan, Ad; Stephan, Ulf; Steinke, Olaff; Maniscalco, Matthew; Moser, Lucas; Bassan, Michele; Yokoyama, Masahito; van Beekum, Erik; Takaki, Hatae

    Radio-frequency plasma to clean ITER front-end diagnostic mirrors in geometry of Edge Thomson Scattering system

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    IOP Publishing, 2023

    Erschienen in: Physica Scripta