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Medientyp: Buch; Hochschulschrift Titel: Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung mit hohen Raten Beteiligte: Steinke, Olaff [VerfasserIn] Erschienen: 1995 Umfang: 147 S.; graph. Darst Sprache: Deutsch RVK-Notation: UR 8000 : Plasmaphysik allgemein Schlagwörter: Silicium > Amorpher Zustand > Dünne Schicht > CVD-Verfahren Entstehung: Hochschulschrift: Dresden, Techn. Univ., Diss., 1995 Anmerkungen:
Zentralbibliothek – Magazin Signatur: 95 8 40606 001 Barcode: 10390120 Status: Ausleihbar, bitte bestellen > Bestellen möglich - bitte anmelden