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  1. Weibel, Daniel Eduardo [VerfasserIn]

    Polymer assisted surface modification by photons

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    New York: Nova Science, 2011

    Erschienen in: Materials science and technologies- Novinka

  2. Moura, Cleverson Alves da Silva; Belmonte, Guilherme Kretzmann; Reddy, Pulikanti Guruprasad; Gonsalves, Kenneth E.; Weibel, Daniel Eduardo

    Correction: EUV photofragmentation study of hybrid nonchemically amplified resists containing antimony as an absorption enhancer

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    Royal Society of Chemistry (RSC), 2018

    Erschienen in: RSC Advances

  3. Moura, Cleverson Alves da Silva; Belmonte, Guilherme Kretzmann; Reddy, Pulikanti Guruprasad; Gonslaves, Kenneth E.; Weibel, Daniel Eduardo

    EUV photofragmentation study of hybrid nonchemically amplified resists containing antimony as an absorption enhancer

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    Royal Society of Chemistry (RSC), 2018

    Erschienen in: RSC Advances

  4. Copetti, Gabriela; Nunes, Eduardo H.; Rolim, Guilherme K.; Soares, Gabriel V.; Correa, Silma A.; Weibel, Daniel E.; Radtke, Cláudio

    Reversibility of Graphene Photochlorination

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    American Chemical Society (ACS), 2018

    Erschienen in: The Journal of Physical Chemistry C

  5. Chagas, Gabriela Ramos; Satyanarayana, Vardhineedi Sri Venkata; Kessler, Felipe; Belmonte, Guilherme Kretzmann; Gonsalves, Kenneth E.; Weibel, Daniel Eduardo

    Selective Fragmentation of Radiation-Sensitive Novel Polymeric Resist Materials by Inner-Shell Irradiation

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    American Chemical Society (ACS), 2015

    Erschienen in: ACS Applied Materials & Interfaces