Media type: Book; Thesis Title: Ionenstrahlinduzierte Wachstumsprozesse amorpher Schichten in Silicium Contributor: Henkel, Thomas [Author] imprint: Dresden: FZR, 1997 Published in: Forschungszentrum Rossendorf: FZR ; 175 Extent: 103 S.; Abb., graph. Darst., Tab Language: German RVK notation: UP 3250 : Dotierung, Strahleneinwirkung auf Halbleiter Keywords: Silicium > Amorpher Zustand > Schichtwachstum > Ionenstrahl Origination: University thesis: Zugl.: Dresden, Techn. Univ., Diss., 1997 Footnote:
Central Library – stack Shelf-mark: 71.4.4090 Item ID: 20233542 Status: Loanable, place order > Ordering possible ‒ please log in