Media type: Book; Thesis Title: Untersuchungen zum Verhalten von C 60 als Resist in der Röntgenlithographie Contributor: Krämer, Heike [Author] Published: 1998 Extent: III, 110 S.; graph. Darst Language: German RVK notation: VK 7157 : Dissertationen, Habilitationsschriften, wertvollere und umfangreichere Sonderdrucke Keywords: Buckminsterfulleren > Photoresist > Röntgenlithografie Origination: University thesis: Bonn, Univ., Diss., 1998 Footnote: