Media type: Book; Thesis Title: Elektronenstrahl- und Tief-UV-Photochemie von Poly(methacrylsäuremethylester) und Poly(methacrylsäuremethylester-co-methacrylsäure) Contributor: Uhl, Arnold [Author] imprint: 2001 Extent: 141 S.; graph. Darst Language: German RVK notation: UV 9555 : Lichtempfindliche Polymere, Polymere Fotorezeptoren Keywords: Polymethylmethacrylate > Photoresist > Elektronenstrahllithografie > Excimerlaser > Fotochemische Reaktion > Nanotechnologie Origination: University thesis: Berlin, Univ., Diss., 2001 Footnote: