Media type: E-Book; Thesis Title: Fabrication and application of self-masked silicon nanostructures in deep reactive ion etching processes Contributor: Kremin, Christoph [Verfasser]; Hoffmann, Martin [Akademischer Betreuer]; Schaaf, Peter [Akademischer Betreuer]; Schnakenberg, Uwe [Akademischer Betreuer] imprint: Ilmenau: Universitätsbibliothek Ilmenau, 2010 Extent: Online-Ressource Language: English Identifier: RVK notation: ZM 7680 : Bedampfen allgemein, PVD-Verfahren Keywords: Industriechemikalie ; Silicium ; Plasmatechnik ; Hochschulschrift Origination: University thesis: Ilmenau, Techn. Univ., Diss., 2010 Footnote: Access State: Open Access