Media type: E-Book Title: Advances in Grayscale Lithography Modeling Contributor: Badawi, Bassem [Verfasser]; Kutter, Christoph [Akademischer Betreuer]; Kutter, Christoph [Gutachter]; Kersch, Alfred [Gutachter] Corporation: Universität der Bundeswehr München, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik imprint: Neubiberg: Universitätsbibliothek der Universität der Bundeswehr München, 2023 Extent: Online-Ressource Language: English Identifier: Keywords: Photoresist ; Nanometerbereich ; Fotolithografie ; Simulation ; Fotolithografie, Halbleiertechnologie ; Grau ; Modellierung ; Algorithmus ; Sperrschicht-FET ; Simulation ; grayscale; lithography; modeling; simulation; Origination: University thesis: Dissertation, Neubiberg, Universität der Bundeswehr München, 2023 Footnote: Access State: Open Access