DKE Deutsche Kommission Elektrotechnik Elektronik Informationstechnik in DIN und VDE,
German Commission for Electrical, Electronic and Information Technologies of DIN and VDE,
DIN Deutsches Institut für Normung e. V.,
DIN German Institute for Standardization
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Media type:
Standard
Title:
DIN EN 62047-26
:
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 26: Beschreibung und Messverfahren für Mikro-Rillen und Nadelstrukturen (IEC 62047-26:2016); Deutsche Fassung EN 62047-26:2016
Other titles:
Früher unter dem Titel: DIN EN 62047-26 (2014-05)
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 26: Description and measurement methods for micro trench and needle structures (IEC 62047-26:2016); German version EN 62047-26:2016
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 26: Description et méthodes de mesure pour structures de microtranchées et de microaiguille (IEC 62047-26:2016); Version allemande EN 62047-26:2016
Footnote:
Internationale Übereinstimmung mit: EN 62047-26 (2016-04), IDT*IEC 62047-26 (2016-01), IDT
Description:
Dieser Teil der Reihe IEC 62047 legt Begriffe sowie die Beschreibung von Rillen-Strukturen und Nadel-Strukturen im Mikrometerbereich fest. Zusätzlich werden Beispiele für Messungen der Geometrie solcher Strukturen bereitgestellt. Bei Rillen-Strukturen ist diese Norm anwendbar bei Strukturen mit einer Tiefe zwischen 1 µm und 100 µm, Wänden und Rillen mit einer Weite von 5 µm bis 150 µm und einem Aspekt-Verhältnis von 0,0067 bis 20. bei Nadel-Strukturen ist die Norm anwendbar für Strukturen mit einer Höhe, horizontalen und vertikalen Weite von 2 µm oder größer und mit Maßen, die in einen Würfel mit 100 µm Seitenlängen passen.