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Medientyp: Buch; Konferenzbericht Titel: Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicron lithographies Beteiligte: Blais, Phillip D. [Hrsg.] Erschienen: Bellingham, Wash., 19XX- Erschienen in: Proceedings of SPIE ; . Sprache: Englisch Schlagwörter: Lithography, electron beam Congresses ; X-ray lithography Congresses ; Ion beam lithography Congresses ; Konferenzschrift Entstehung: Anmerkungen: HST teilw.: Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies. - HST teilw.: Electron-beam, x-ray, and ion-beam lithographies. - Ab Bd. 7 u.d.T.: Electron-beam, x-ray, and ion-beam technology: submicrometer lithographies
9: Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicron lithographies 9 7 - 8 March 1990, San Jose, Calif. Phillip D. Blais, ... chairman/ed Bellingham, Wash., 1990