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Medientyp: Mikrofiche; Hochschulschrift Titel: PECVD of SiOX films from oxygen and hexamethyldisiloxane in a double source reactor Beteiligte: Bieder, Andrea [VerfasserIn] Erschienen: 2006 Mikrofiche-Ausg. Umfang: XIV, 145 S.; Ill Sprache: Englisch RVK-Notation: ZN 4174 : CVD Schlagwörter: Siliciumoxide > PECVD-Verfahren Art der Reproduktion: Mikrofiche-Ausg. Entstehung: Hochschulschrift: Zürich, Techn. Hochsch., Diss., 2006 Anmerkungen:
Zentralbibliothek – Magazin Signatur: 2006 8 069842 Barcode: 31472580 Notizen: 3 Mikrofiches Status: Bestellen zur Benutzung im Haus, Versand per Fernleihe möglich > Bestellen möglich - bitte anmelden Bestellungen, die von Mo - Fr bis 13 Uhr eingehen, werden voraussichtlich am selben Tag für Sie bereitgestellt.