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Medientyp: E-Book; Hochschulschrift Titel: Phase formation and size effects in nanoscale silicide layers for the sub-100 nm microprocessor technology Beteiligte: Rinderknecht, Jochen [VerfasserIn] Erschienen: 2005 Umfang: Online-Ressource Sprache: Englisch Identifikator: RVK-Notation: UP 7560 : Metallische Schichten, Metall-Halbleiter-Kontakt Schlagwörter: CMOS ; Dünne Schicht ; Mikroprozessor ; Schichtdicke ; Silicide ; Hochschulschrift Entstehung: Hochschulschrift: Dresden, Techn. Univ., Diss., 2005 Anmerkungen: Information zum Bestand: Elektronischer Volltext - Zugang über WWW Zugangsstatus: Freier Zugang Rechte-/Nutzungshinweise: Urheberrechtsschutz