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Ullmann, Vinzenz
[Verfasser:in]
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Manske, Eberhard
[Akademische:r Betreuer:in];
Tutsch, Rainer
[Akademische:r Betreuer:in];
Dontsov, Denis
[Akademische:r Betreuer:in]
Technische Universität Ilmenau
Beiträge zur direktantastenden Interferometrie in der optischen Form- und Längenmesstechnik
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- Medientyp: E-Book; Hochschulschrift
- Titel: Beiträge zur direktantastenden Interferometrie in der optischen Form- und Längenmesstechnik
- Beteiligte: Ullmann, Vinzenz [Verfasser:in]; Manske, Eberhard [Akademische:r Betreuer:in]; Tutsch, Rainer [Akademische:r Betreuer:in]; Dontsov, Denis [Akademische:r Betreuer:in]
- Körperschaft: Technische Universität Ilmenau
-
Erschienen:
Ilmenau: Universitätsbibliothek, 30.09.2019
- Umfang: 1 Online-Ressource (g, III, 169 Seiten); Diagramme, Illustrationen (teilweise farbig)
- Sprache: Deutsch
- Identifikator:
-
Schlagwörter:
Interferometrie
>
Längenmessung
>
Formmessung
>
Interferenzlängenmessung
- Entstehung:
-
Hochschulschrift:
Dissertation, Technische Universität Ilmenau, 2019
-
Anmerkungen:
Das Erscheinungsdatum ist der Tag der Verteidigung
- Beschreibung: In der vorliegenden Dissertationsschrift werden drei neue interferometrische Messanwendungen in der Form- und Längenmesstechnik entwickelt und untersucht, die auf einer optischen Direktantastung technischer Oberflächen beruhen. Die angetasten Oberflächen unterscheiden sich in Form, Rauheit und Reflexionsgrad deutlich von ebenen Spiegeln, was eine Anpassung der antastenden Wellenfronten im Interferometer erfordert. Zu den betrachteten Anwendungen gehören eine interferenzoptische Rundheits- und Rundlaufmessung, eine interferenzoptische Durchmessermessung an Lehrringen und eine interferenzoptische Kavitätslängenmessung. Für die Realisierung der interferenzoptischen Anwendungen wurden vier technische Konzepte abgeleitet, miteinander kombiniert und in Technologiedemonstratoren umgesetzt. Das erste technische Konzept ermöglicht eine interferenzoptische Direktantastung gekrümmter Oberflächen durch die Anpassung der Wellenfronten im Messstrahl an die Oberflächenform. Dies wird durch die Einbindung einer adaptiven Optik erreicht. Das zweite Konzept sieht die Kopplung eines Laserinterferometers mit einem Weißlichtinterferometer vor, um eine absolute optische Längenmessungen mit hoher Präzision (Auflösung im Nanometerbereich) und einem großen Messbereich (mehrere hundert Millimeter) durchführen zu können. Das Weißlichtinterferometer wird gemäß dem dritten technischen Konzept mit kompakten, sehr langlebigen, lichtwellenleitergekoppelten LEDs betrieben, die ein breiteres optisches Spektrum aufweisen als Superlumineszenzdioden (SLD), aber auch eine geringere Lichtausgangsleistung. Um im Weißlichtinterferometer ausreichend Lichtleistung zur Erzeugung von Interferenzsignaturen zur Verfügung stellen zu können, werden Multimode-Lichtwellenleiter (MM-LWL) eingesetzt. Diese MM-LWL verursachen aufgrund von Speckle-Effekten einen kontrastmindernden Effekt im Weißlichtinterferometer, der sich auf die geeignete Einstellung der Interferenzstreifenbreite auswirkt. Dieser Effekt wurde untersucht und mathematisch modelliert, um die Interferometerkonstruktion zu optimieren. Das vierte technische Konzept beschreibt den Einsatz achromatisch polarisierender Optikelemente im Weißlichtinterferometer. Es werden die Eigenschaften dieser achromatischen Optiken und deren Vorteile für eine effiziente Strahlführung im Weißlichtinterferometer untersucht und beschrieben. Neben einem Funktionsnachweis der interferenzoptischen Durchmessermessung wurden für die interferenzoptische Rundheits- und Rundlaufmessung und die interferenzoptische Kavitätslängenmessung automatisierte Messprozesse umgesetzt, die anschließend messtechnisch charakterisiert werden konnten. Für Messergebnisse einer interferenzoptischen Rundheitsmessunge wird eine erweiterte Messunsicherheit von U = 50 nm (k = 2 u. P = 95 %) erreicht. Eine interferenzoptische Längenmessung an einer Kavität mit dem Nennmaß von l = 10 mm in der Nanopositionier- und Messmaschine NMM-1 garantiert Messergebnisse mit einer erweiterten Messunsicherheit von U = 5 nm (k = 2 u. P = 95 %).
- Zugangsstatus: Freier Zugang