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Si, Shuhao [Verfasser:in]; Weigel, Christoph [Verfasser:in]; Messerschmidt, Martin [Verfasser:in]; Thesen, Manuel W. [Verfasser:in]; Sinzinger, Stefan [Verfasser:in]; Strehle, Steffen [Verfasser:in]

A study of imprint and etching behavior on fused silica of a new tailored resist mr-NIL213FC for soft UV-NIL

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Medientyp: E-Artikel
Titel: A study of imprint and etching behavior on fused silica of a new tailored resist mr-NIL213FC for soft UV-NIL
Beteiligte: Si, Shuhao [Verfasser:in]; Weigel, Christoph [Verfasser:in]; Messerschmidt, Martin [Verfasser:in]; Thesen, Manuel W. [Verfasser:in]; Sinzinger, Stefan [Verfasser:in]; Strehle, Steffen [Verfasser:in]
Erschienen: 2020
Erschienen in: Micro and nano engineering ; 6(2020) vom: Apr., Artikel-ID 100047, Seite 1-7
Sprache: Englisch
DOI: 10.1016/j.mne.2020.100047
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Zugangsstatus: Freier Zugang
Rechte-/Nutzungshinweise: Namensnennung (CC BY)

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