Afanas'ev, V. V.
[VerfasserIn];
Stesmans, A.
[VerfasserIn];
Zhao, C.
[VerfasserIn];
Caymax, M.
[VerfasserIn];
Heeg, T.
[VerfasserIn];
Schubert, J.
[VerfasserIn];
Jia, Y.
[VerfasserIn];
Schlom, D. G.
[VerfasserIn];
Lucovsky, G.
[VerfasserIn]
Band alignment between (100)Si and complex rare earth/transition metal oxides
Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
Medientyp:
E-Artikel
Titel:
Band alignment between (100)Si and complex rare earth/transition metal oxides
Beteiligte:
Afanas'ev, V. V.
[VerfasserIn];
Stesmans, A.
[VerfasserIn];
Zhao, C.
[VerfasserIn];
Caymax, M.
[VerfasserIn];
Heeg, T.
[VerfasserIn];
Schubert, J.
[VerfasserIn];
Jia, Y.
[VerfasserIn];
Schlom, D. G.
[VerfasserIn];
Lucovsky, G.
[VerfasserIn]
Anmerkungen:
Diese Datenquelle enthält auch Bestandsnachweise, die nicht zu einem Volltext führen.
Beschreibung:
The electron energy band alignment between (100)Si and several complex transition/rare earth (RE) metal oxides (LaScO3, GdScO3, DyScO3, and LaAlO3, all in amorphous form) is determined using a combination of internal photoemission and photoconductivity measurements. The band gap width is nearly the same in all the oxides (5.6-5.7 eV) yielding the conduction and valence band offsets at the Si/oxide interface of 2.0+/-0.1 and 2.5+/-0.1 eV, respectively. However, band-tail states are observed and these are associated with Jahn-Teller relaxation of transition metal and RE cations which splits their d* states. (C) 2004 American Institute of Physics.