Atomic layer deposition and characterization of metal oxide thin films

Medientyp: E-Book

Titel: Atomic layer deposition and characterization of metal oxide thin films

Weitere Titel: Atomlagenabscheidung und Charakterisierung von Metalloxid-Dünnfilmen

Beteiligte: Mahmoodinezhad, Ali [Verfasser:in]; Flege, Jan Ingo [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Wollschläger, Joachim [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Wenger, Christian [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

Erschienen: Cottbus: BTU Cottbus - Senftenberg, 2022

Umfang: Online-Ressource

Sprache: Englisch

DOI: 10.26127/BTUOpen-6134

Identifikator:

Schlagwörter: Atomlagenabscheidung ; Dünne Schicht ; Ausgangsmaterial ; Dielektrische Schicht ; Aluminiumoxide ; Kupferoxide ; Kupfer ; Tieftemperatur ; Beschichtung ; Metallschicht ; Ceroxide ; Indiumoxide ; Thermal atomic layer deposition ; Plasma-enhanced atomic layer deposition ; Indium gallium zinc oxide ; Aluminum oxide ; Cerium oxide ; Thermische Atomlagenabscheidung ; Plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung ; IGZO ; AlOx ; CeOx

Entstehung:

Hochschulschrift: Dissertation, Cottbus, BTU Cottbus - Senftenberg, 2022

Anmerkungen:

Zugangsstatus: Freier Zugang

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