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Medientyp: E-Book; Hochschulschrift Titel: Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie Beteiligte: Ludsteck, Alexandra [Verfasser:in] Umfang: Online-Ressource Sprache: Deutsch Identifikator: Schlagwörter: MOS-Schaltung > Gate-Oxid > Dielektrische Schicht > Siliciumdioxid > Siliciumoxinitride > Rapid thermal processing Entstehung: Hochschulschrift: München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2005 Anmerkungen: Zugangsstatus: Freier Zugang