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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: On retrograde phosphorus concentration depth profiles in silicon after POCl3 diffusion and thermal oxidation Beteiligte: Horzel, Jörg; Mack, Sebastian; Meßmer, Marius; Schmidt, Stefan; Richter, Susanne; Wolf, Andreas; Schön, Jonas; Rentsch, Jochen Erschienen: AIP Publishing, 2022 Erschienen in: SiliconPV 2021, The 11th International Conference on Crystalline Silicon Photovoltaics (2022) Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1063/5.0089692 ISSN: 0094-243X Entstehung: Anmerkungen: