Vasin, A. V.;
Rusavsky, A. V.;
Mamykin, S. V.;
Nikolenko, A. S.;
Strelchuk, V. V.;
Yatskiv, R.;
Grym, J.;
Gudimenko, A. I.;
Kladko, V. P.;
Tyagulskyy, I. P.;
Lorinčik, J.;
Elantyev, I.;
Nazarov, A. N.
On the nature of doping effect of methane in ZnO thin films deposited by RF-magnetron sputtering
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Medientyp:
E-Artikel
Titel:
On the nature of doping effect of methane in ZnO thin films deposited by RF-magnetron sputtering
Beteiligte:
Vasin, A. V.;
Rusavsky, A. V.;
Mamykin, S. V.;
Nikolenko, A. S.;
Strelchuk, V. V.;
Yatskiv, R.;
Grym, J.;
Gudimenko, A. I.;
Kladko, V. P.;
Tyagulskyy, I. P.;
Lorinčik, J.;
Elantyev, I.;
Nazarov, A. N.
Erschienen:
Springer Science and Business Media LLC, 2022
Erschienen in:Journal of Materials Science: Materials in Electronics