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Medientyp: E-Artikel Titel: Modeling high-concentration phosphorus diffusion in crystalline silicon Beteiligte: Velichko, O. I.; Aksenov, V. V.; Anufriev, L. P.; Golubev, N. F.; Komarov, A. F. Erschienen: Springer Science and Business Media LLC, 2013 Erschienen in: Journal of Engineering Physics and Thermophysics Sprache: Englisch DOI: 10.1007/s10891-013-0881-4 ISSN: 1062-0125; 1573-871X Schlagwörter: General Engineering ; Condensed Matter Physics Entstehung: Anmerkungen: